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    溅射靶材公司排名TOP10

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    溅射靶材主要应用于一些需要应用溅射生长的功能性薄膜上,例如:磁控溅射、脉冲激光沉积等方法,而这些制膜方法对靶材提出了较高的要求,因此对溅射靶材公司也提出了更高的要求。溅射靶材公司需要具有良好的烧结设备和技术强劲的研发团队以及优秀的售后服务,由于溅射靶材的表面以及致密度都需要具有极高的质量,因此具备以上三点的溅射靶材公司才可以提供良好的靶材服务。

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    完备的靶材公司应从靶材的定制到靶材的制作再到靶材的销售,均具有专业的人员负责,溅射靶材的公司有很多,本文以Ga2O3陶瓷靶材为例为大家进行简单的介绍。

    1.陶瓷靶材制备方法:采用99.99%纯度的Ga2O3粉末,等静压压制靶材在1000度以上高温下通过固相烧结制备方法制备陶瓷靶材。

    2.陶瓷靶材规格:经过X射线验证为单一结构相;靶材直径20至50毫米且厚度3至6毫米,尺寸可以根据客户要求定制,高质量的Ga2O3靶材价格通常在2000元及以上。

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